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低溫冷卻循環(huán)器泵

低溫恒溫槽制冷循環(huán)器低溫制冷循環(huán)器超低溫制冷循環(huán)器

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LX-20A制冷循環(huán)低溫冷凍機(jī)

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LX-145低溫制冷循環(huán)器

更新時(shí)間：2023-11-17

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LX-0250低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時(shí)間：2024-01-18

型號：LX-0250

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制冷循環(huán)冷水機(jī)

更新時(shí)間：2023-11-17

型號：

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制冷循環(huán)冷水機(jī)使用范圍：對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。其他產(chǎn)業(yè)用機(jī)器發(fā)熱部分的冷卻：
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LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵

更新時(shí)間：2024-01-18

型號：LX-70

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LX-70低溫冷卻循環(huán)器泵對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
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LX-40制冷循環(huán)器

更新時(shí)間：2023-11-17

型號：LX-40

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LX-40制冷循環(huán)器使用范圍：對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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LX-25制冷循環(huán)器

更新時(shí)間：2023-11-17

型號：LX-25

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LX-25制冷循環(huán)器使用范圍：對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機(jī)的發(fā)熱部分、激光標(biāo)志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機(jī)等。
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LX-10制冷循環(huán)器

更新時(shí)間：2023-11-17

型號：LX-10

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LX-10制冷循環(huán)器使用范圍：對半導(dǎo)體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉(zhuǎn)載、印刷機(jī)、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機(jī)、包裝機(jī)、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。LX-10產(chǎn)品概述節(jié)省水資源，可以使用水兌乙二醇混合液進(jìn)行循環(huán)制冷，節(jié)約資源；嚴(yán)密的循環(huán)管路設(shè)計(jì)，防止循環(huán)水污染。
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